การใช้วัสดุโลหะแทนทาลัม

วัสดุเป้าหมายแทนทาลัมมักเรียกว่าเป้าหมายเปลือย ประการแรก มันจะถูกเชื่อมด้วยเป้าหมายสำรองทองแดง จากนั้นเซมิคอนดักเตอร์หรือการสปัตเตอร์แบบออปติคัล อะตอมแทนทาลัมจะถูกวางลงบนวัสดุพื้นผิวที่มีการก่อตัวของออกไซด์เพื่อให้เกิดการเคลือบสปัตเตอร์ ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ปัจจุบันการใช้แทนทาลัมโลหะ (Ta) เป็นหลักผ่านการเคลือบไอทางกายภาพ (PVD) และการก่อตัวของชั้นกั้นเป็นวัสดุเป้าหมาย ดังที่เราทุกคนทราบกันดีว่าประสิทธิภาพของโลหะแทนทาลัมค่อนข้างคงที่ แต่ขนาดอนุภาคที่ละเอียดกว่าของผงโลหะแทนทาลัมนั้นมีความกระตือรือร้นมากกว่า และทำปฏิกิริยากับออกซิเจน ไนโตรเจนและอื่น ๆ ที่อุณหภูมิห้อง เพื่อให้ออกซิเจน ไนโตรเจน และสิ่งสกปรกอื่น ๆ ในปริมาณผงแทนทาลัมเพิ่มขึ้น เพื่อให้ได้เป้าหมายแทนทาลัมคุณภาพสูง จำเป็นต้องลดปริมาณสิ่งเจือปนในผงแทนทาลัมก่อน และปรับปรุงความบริสุทธิ์ของผงแทนทาลัม การลดขนาดอนุภาคของผงแทนทาลัมเป็นสิ่งจำเป็นในการปรับปรุงคุณภาพของผงแทนทาลัมและเป้าหมายแทนทาลัม เป้าหมายแทนทาลัมส่วนใหญ่จะใช้ในการเคลือบเซมิคอนดักเตอร์ การเคลือบแสง การตกแต่ง จอแบน การเคลือบฟังก์ชั่น และอุตสาหกรรมพื้นที่จัดเก็บข้อมูลแสงอื่นๆ อุตสาหกรรมการเคลือบแก้ว เช่น กระจกรถยนต์และกระจกสถาปัตยกรรม และการสื่อสารด้วยแสง เซมิคอนดักเตอร์ใช้กระบวนการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) เพื่อ "สปัตเตอร์" แทนทาลัมสปัตเตอร์เป้าหมายลงบนพื้นผิวเซมิคอนดักเตอร์เพื่อสร้างแผงกั้นการแพร่กระจายของฟิล์มบาง ๆ เพื่อปกป้องการเชื่อมต่อระหว่างกันของทองแดง เป้าหมายสปัตเตอร์แทนทาลัมยังใช้ในผลิตภัณฑ์อื่นๆ มากมาย รวมถึงสื่อบันทึกข้อมูลแบบแม่เหล็ก หัวเครื่องพิมพ์อิงค์เจ็ท และจอแบน จุดหลอมเหลวสูงและความต้านทานการกัดกร่อนของใบพัดกังหันของเครื่องยนต์ทำให้เหมาะอย่างยิ่งสำหรับการใช้งานอัลลอยด์ แทนทาลัมใช้ในโลหะผสมที่มีอุณหภูมิสูงซึ่งมีนิกเกิลเป็นองค์ประกอบหลัก โดยการใช้งานหลักคือใบพัดกังหันสำหรับเครื่องยนต์อากาศยานและกังหันก๊าซบนบก อุปกรณ์แปรรูปทางเคมีมีการกัดกร่อนสูงมากและทนต่ออุณหภูมิสูง ทำให้โลหะเป็นวัสดุก่อสร้างในอุดมคติสำหรับการบุภาชนะ ท่อ วาล์ว และเครื่องแลกเปลี่ยนความร้อนในอุตสาหกรรมเคมีและยา